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产品类型：螺旋挡圈
工程技术领域：材料与离心力限制
在高真空（$P < 10^{-7} \text{ Pa}$）环境下，材料表面的氧化层消失，且低熔点合金元素易发生升华。升华速率满足 $W = \frac{P_{vap}}{17.14} \text{\textsurd}\frac{M}{T} \text{ g/cm}^2\text{\textperiodcentered s}$。若挡圈含有镉或锌，会直接导致污染光学镜片。同时，失去氧化膜的螺旋挡圈与轴槽接触面极易发生原子扩散导致的“冷焊”。解决方案是选用真空熔炼（VIM-VAR）的 $302$ 不锈钢或蒙乃尔合金，并进行表面渗氮处理以形成硬质扩散层，提高接触电阻率。设计时必须校核接触面压强 $p = \frac{F_{axial}}{\text{\textpi} D h_{groove}}$，确保其远低于材料在真空下的粘着阈值。
关键控制指标参数：饱和蒸气压 $P_{vap} / \text{Pa}$
